O regulador de presión de gas de 25 MPA de alta presión úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio Imaxe destacada

O regulador de presión de gas 25MPA de alta presión úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio

Descrición curta:

características

1. Estrutura de detección de pistóns dunha etapa

2. Rango de axuste de presión de saída maior

3. Pódese usar para gas estándar e gas non corrosivo

4. Instale un elemento filtrante de 20 micras na entrada

5. Pódense proporcionar opcións de aplicación de ambiente de osíxeno

Envíanos un correo electrónico

Detalle do produto

Vídeo

Parámetros

Aplicacións

FAQ

Etiquetas de produtos

Descrición do produto

características

1. Estrutura de detección de pistóns dunha etapa

2. Rango de axuste de presión de saída maior

3. Pódese usar para gas estándar e gas non corrosivo

4. Instale un elemento filtrante de 20 micras na entrada

5. Pódense proporcionar opcións de aplicación de ambiente de osíxeno

Anterior: Válvula neumática de diafragma de aceiro inoxidable de gas de alta pureza 1/4 de polgada de alta presión

Seguinte: Válvula de seguridade de gas AFK de aceiro inoxidable 1/4" 3/8" 1/2" Industrial

Especificación do regulador de presión de gas

Datos técnicos

1. Presión máxima de entrada: 4500 psi ou 6000 psi

2. Rango de presión de saída: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

3. Material dos compoñentes internos:

Asento da válvula: PCTFE

Pistón: 316 L

Junta tórica: FKM

Elemento filtrante: 316L

4. Temperatura de traballo: – 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

5. Taxa de fuga (helio): Dentro: sen burbullas visibles Externas: sen burbullas visibles

6. Coeficiente de caudal (CV): 0,09

7. Porto principal: Entrada: 1 / 4NPT Saída: 1 / 4NPT Porto para manómetro: 1 / 4NPT

R41	L	B	B	D	G	00	00	P
Elemento	Materia Corporal	Burato do corpo	Presión de entrada	Presión de saída	Manómetro	Tamaño de entrada	Tamaño de saída	Opcións
R41	L:316	A	B: 6000 psig	D: 0 ~ 3000 psig	G: indicador MPa	00:1/4″NPT(F)	00:1/4″NPT(F)	P: Montaxe en panel
	B: Latón	B	D: 4500 psig	E: 0 ~ 1500 psig	P: indicador psig/bar	00:1/4″NPT(M)	00:1/4″NPT(M)
		D		F: 0 ~ 500 psig	W: Sen indicador	10:1/8″OD	10:1/8″OD
		G		G: 0 ~ 250 psig		11:1/4″OD	11:1/4″OD
		J				12:3/8″OD	12:3/8″OD
		M				15:6 mm de diámetro exterior	15:6 mm de diámetro exterior
						16:8 mm de diámetro exterior	16:8 mm de diámetro exterior

Técnicas de limpeza

Estándar (WK-BA)
Os accesorios soldados límpanse de acordo coas nosas especificacións estándar de limpeza e embalaxe.
Non é necesario engadir sufixos ao pedir.
Limpeza de osíxeno (WK – O2)
Están dispoñibles especificacións para a limpeza e o envasado de produtos para ambientes de osíxeno.
Este cumpre os requisitos de limpeza ASTM G93 Clase C.Ao pedir, engade -O2 ao final do número de pedido.

Industrias implicadas

TFT-LCD

Os gases especiais de proceso utilizados no proceso de deposición CVD do proceso de fabricación TFT-LCD son silano (S1H4), amoníaco (NH3), fosfina (PH3), óxido nitroso (N2O), NF3, etc. Ademais, hidróxeno de alta pureza e alta pureza. No proceso tamén interveñen nitróxeno de pureza e outros gases a granel.O argón úsase no proceso de pulverización catódica e o gas que forma a película é o principal material para a pulverización.En primeiro lugar, é necesario que o gas formador de película non poida reaccionar co obxectivo, e o gas máis axeitado é o gas inerte.Tamén se utilizará unha gran cantidade de gas especial no proceso de gravado, mentres que o gas especial electrónico é principalmente inflamable, explosivo e altamente tóxico, polo que os requisitos para o circuíto de gas e a tecnoloxía son moi altos.Wofei Technology está especializada no deseño e instalación de sistemas de transmisión de gas especial de ultra-alta pureza.

Os gases especiais úsanse principalmente nos procesos de formación de películas e gravado en seco na industria LCD.Hai moitos tipos de LCD, entre os que o TFT-LCD é a tecnoloxía LCD máis utilizada debido ao seu rápido tempo de resposta, a súa alta calidade de imaxe e o seu custo gradualmente máis baixo.O proceso de fabricación do panel TFT-LCD pódese dividir en tres etapas: conxunto frontal, celda central e montaxe do módulo traseiro.O gas especial electrónico úsase principalmente nas etapas de formación de películas e gravado en seco do proceso de matriz frontal.Despois de múltiples procesos de formación de películas, as películas non metálicas de SiNx e as películas metálicas como a reixa, a fonte, o drenaxe e o ITO son depositadas respectivamente no substrato.

1. quen somos?

Estamos baseados en Guangdong, China, a partir de 2011, vendemos ao sueste asiático (20,00 %), África (20,00 %), o leste de Asia (10,00 %), o Oriente Medio (10,00 %), o mercado interno (5,00 %), o sur de Asia. (5,00%), Norte de Europa (5,00%), América Central (5,00%), Europa Occidental (5,00%), América do Sur (5,00%), Europa Oriental (5,00%), América do Norte (5,00%).En total hai entre 51 e 100 persoas na nosa oficina.

2. como podemos garantir a calidade?

Sempre unha mostra de preprodución antes da produción en masa;Sempre a inspección final antes do envío;

3.Que podes mercar connosco?

regulador de presión, accesorios para tubos, válvula solenoide, válvula de agulla, válvula de retención

4. por que deberías comprarnos non doutros provedores?

Temos un par de anos con enxeñeiros profesionais e técnicos dedicados. Podemos proporcionarche produtos de seguridade

5. que servizos podemos ofrecer?

Condicións de entrega aceptadas: FOB,CIF,EXW;

Moeda de pago aceptada: USD, CNY;

Tipo de pago aceptado: T/T,L/C,Western Union;

Idioma falado: inglés, chinés

Escribe aquí a túa mensaxe e envíanolo