Axudamos ao mundo a crecer desde 1983
English
O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para a imaxe tóxica corrosiva de laboratorio
  • O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio
  • O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio
  • O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio
  • O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio
  • O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio
  • O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio

O regulador de presión de gas de alta presión de 25MPA úsase para o gas tóxico corrosivo de laboratorio

Descrición curta:

Características

1. Estrutura de detección de pistóns dun só estadio
2. Rango de axuste da presión de saída maior
3. Pódese usar para gas estándar e gas non corrosivo
4. Instale un elemento de filtro de 20 micras na entrada
5. As opcións de aplicación do ambiente de osíxeno pódense proporcionar


Detalle do produto

Vídeo

Parámetros

Información de pedido

Aplicacións

FAQ

Etiquetas de produto

Descrición do produto

海报图
细节

Características

1. Estrutura de detección de pistóns dun só estadio
2. Rango de axuste da presión de saída maior
3. Pódese usar para gas estándar e gas non corrosivo
4. Instale un elemento de filtro de 20 micras na entrada
5. As opcións de aplicación do ambiente de osíxeno pódense proporcionar
  • Anterior:
  • Seguinte:

    • Especificación do regulador de presión de gas

    Datos técnicos

    1. Presión máxima de entrada: 4500psi ou 6000psi

    2. Rango de presión de saída: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

    3. Material de compoñentes internos:

    Asento da válvula: PCTFE

    Pistón: 316L

    O-ring: fkm

    Elemento de filtro: 316L

    4. Temperatura de traballo:- 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

    5. Taxa de fuga (helio): Inside: Non hai burbullas visibles externas: sen burbullas visibles

    6. Coeficiente de fluxo (CV): 0,09

    7. Porto pai: Entrada: 1 / 4NPT Toma: 1 / 4NPT Preso PORT: 1 / 4NPT

    R11 尺寸图 1 R11 流量图

    Técnicas de limpeza

    Estándar (wk-ba)
    Os accesorios soldados limpanse de acordo coas nosas especificacións de limpeza e envasado estándar.
    Non hai que engadir sufixos ao solicitar.
    Limpeza de osíxeno (WK - O2)
    Hai especificacións para a limpeza e envasado de produtos para ambientes de osíxeno.
    Isto cumpre os requisitos de limpeza de clase C ASTM G93. Ao solicitar, engade -O2 ao final do número de pedido.

    R41-1

    Industrias implicadas

    TFT-LCD

    Os gases especiais do proceso empregados no proceso de deposición de CVD do proceso de fabricación de TFT-LCD son o silano (S1H4), o amoníaco (NH3), a fosfina (PH3), o óxido nitroso (N2O), o NF3, etc. Ademais, ademais, hidrogeno de alta pureza e alta pureza nitrogen e outros gases de granea están implicados tamén no proceso. O argón úsase no proceso de pulverización, e a película pulverizada que forma gas é o material principal para o sputtering. En primeiro lugar, é necesario que o gas que forme a película non poida reaccionar co obxectivo e o gas máis adecuado é o gas inerte. Tamén se empregará unha gran cantidade de gas especial no proceso de gravado, mentres que o gas especial electrónico é principalmente inflamable, explosivo e altamente tóxico, polo que os requisitos para o circuíto de gas e a tecnoloxía son moi altos. A tecnoloxía WOFEI está especializada no deseño e instalación do sistema de transmisión especial de gas ultra-alta.
    HF94B06B9CB2D462E9A026212080DB1EFQ
    Os gases especiais úsanse principalmente nos procesos de formación de películas e gravado en seco na industria LCD. Hai moitos tipos de LCD, entre os que o TFT-LCD é a tecnoloxía LCD máis utilizada debido ao seu tempo de resposta rápida, alta calidade de imaxe e un custo gradualmente inferior. O proceso de fabricación do panel TFT-LCD pódese dividir en tres etapas: matriz frontal, célula media e montaxe do módulo traseiro. O gas especial electrónico úsase principalmente nas etapas de formación de películas e secas en seco do proceso de matriz frontal. Despois de múltiples procesos de formación de películas, as películas non metálicas SINX e películas metálicas como rede, fonte, drenaxe e ITO deposítanse respectivamente no substrato.
     H37005B2BD8444D9B949C9CB5952F76EDW

    1. Quen somos?

    Estamos con sede en Guangdong, China, a partir de 2011, vender ao sueste asiático (20,00%), África (20,00%), leste de Asia (10,00%), mediados do leste (10,00%), mercado interno (5,00%), Asia do Sur (5,00%), Europa do Norte (5,00%), América Central (5,00%), Europa occidental (5,00%), 5,00%, 5,00%, 5,00%occidental, 5,00%, 5,00%, América (5,00%). Hai un total de 51-100 persoas na nosa oficina.

    2. Como podemos garantir a calidade?

    Sempre unha mostra de preproducción antes da produción en masa; Sempre a inspección final antes do envío;

    3. Que podes mercar de nós?

    Regulador de presión, accesorios de tubos, válvula de solenoide, válvula de agulla, válvula de verificación

    4. Por que debes mercar de nós non doutros provedores?

    Temos un par de anos con enxeñeiros profesionais e técnicos dedicados.

    5. Que servizos podemos prestar?

    Termos de entrega aceptados: FOB, CIF, EXW ；

    Moeda de pago aceptada: USD, CNY;

    Tipo de pago aceptado: T/T, L/C, Western Union;

    Lingua falado: inglés, chinés

    Escribe a túa mensaxe aquí e enviala

    Categorías de produtos