Regulador de presión de latón R57L
Regulador de presión única da serie R57L que se usa para un sistema de distribución de gas de fluxo pequeno e medio e adecuado para inserir gases, é dicir, argon, helio, osíxeno, CO2, etc.
Características da estrutura
Presión dunha única etapa reducindo a estrutura de presión
Diafragma de 2 ″
Calibre a presión de 2 ″
Máx. Presión de entrada 2. 5MPA (25bar, 362. 5PSI)
Material
Corpo: latón
Bonco: latón
Diafragma: neopreno
Stainer: bronce
Aplicación
Gas non corrosivo
Purge System
Proba de laboratorio
Fabricación industrial
Modelo nº | Medio | Máx. Entrada P. | Oulet P. | Calibre de entrada | Calibre de saída | Conexión de entrada | Conexión de oulet |
R57LX-15 | o2 | 2.5 | 0,03 ~ 0,85 | N/a | 1.6 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
R57LX-15-N | 2.5 | 0,03 ~ 0,85 | N/a | 1.6 | M16-1.5RH (M) | M16-1.5RH (M) | |
R57LX-17-N | 2.5 | 0,03 ~ 1,7 | N/a | 2.5 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) | |
R57LY-15 | acetileno | 2.5 | 0,01-0,1 | N/a | 0,25 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ″ NPT (F) |
R57LY-15-N | 2.5 | 0,01-0,1 | N/a | 0,25 | M16-1.5RH (M) | M16-1.5RH (M) | |
R57LF-8O | propano.ng | 2.5 | 0,02 ~ 0,56 | N/a | 1 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
R57LF-80-N | 2.5 | 0,02 ~ 0,56 | N/a | 1 | M16-1.5RH (M) | M16-1.5RH (M) | |
R57un-15 | Ar, he, n2 | 2.5 | 0,03 ~ 0,85 | N/a | 1.6 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
R57un-17 | 2.5 | 0,03 ~ 1,7 | N/a | 2.5 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) | |
R57LQ-15 | Aire | 2.5 | 0,03 ~ 0,85 | N/a | 1.6 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
R57LQ-17 | 2.5 | 0,03 ~ 1,7 | N/a | 2.5 | 1/4* NPT (F) | 1/4* NPT (F) | |
R57LH-08 | H2 | 2.5 | 0,02 ~ 0,85 | N/a | 1 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
R57LH-15 | 2.5 | 0,03 ~ 0,85 | N/a | 1.6 | 1/4* NPT (F) | 1/4* NPT (F) | |
R57LH-17 | 2.5 | 0,03 ~ 1,7 | N/a | 2.5 | 1/4 ″ NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) | |
R57LC-15 | CO2 | 2.5 | 0,03 ~ 0,85 | N/a | 1.6 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
R57LC-17 | 2.5 | 0,03 ~ 1,7 | N/a | 2.5 | 1/4 ”NPT (F) | 1/4 ”NPT (F) |
En aplicacións de fabricación de circuítos integrados, inclúen fabricación de chips de circuítos integrados, deposición de vapores químicos e aplicacións de gas, grabado e aplicacións de gas, dopaxe e aplicacións de gas